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商品詳情
品牌凱德力
型號kdl
類型ac/dc電源
輸入電壓220/380v
輸出功率3600w
調制方式脈沖寬度調制(pwm)式
晶體管連接方式全橋式
輸出電壓0-1200v
工作效率95%
輸出紋波噪音1%
輸出電壓精度1%
電壓調整率1%
負載調整率1%
產品認證kdl
輸出電流0-3aa
展開
供應真空鍍膜電源 真空濺射鍍膜電源 真空蒸發鍍膜電源 1200v3a
點我去除廣告
本公司生產的真空鍍膜電源（真空蒸發鍍膜電源和真空濺射鍍膜電源）有以下特點：
1、恒流輸出，不隨氣壓變化。
2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能,具有極佳的負載匹配能力。
3、工藝重復性好。
4、提高成膜速度，實現高質量的濺射膜層。
詳細說明：
真空鍍膜電源
真空鍍膜行業不同于以往的電鍍行業，屬于物理方式的表面處理行業。廣泛用于各種金屬及非金屬鍍膜裝置，涂鍍光元件、微電子元件、磁性元件、鐘表、種類裝飾材料、體育用品、精密工模具、薄膜包裝等鍍膜制品，以及應用于現代工業、航空航天航海等軍事領域的鍍耐蝕膜、耐磨損膜、固體潤滑膜裝置。真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度（hv,uhv）而擁有統一名稱。真空鍍膜主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，mbe分子束外延，溶膠凝膠法等等。
一、對于蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。
二對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且***終沉積在基片表面，經歷成膜過程，***終形成薄膜。
真空鍍膜電源是真空鍍膜設備的重要組成部分。例如在真空濺射設備中就是由濺射室、磁控濺射靶、對向磁控靶、射頻電源、直流電源、樣品加熱轉臺、真空獲得及測量系統、電控系統、氣路系統、微機控制膜層系統等組成。
本公司自主研發生產的真空鍍膜電源，成功地運用了優異的脈寬調制技術（pwm），引進三菱、富士等國外進的igbt核心執行元件，大功率機器采用結構均流技術，并配以各種完善的保護功能，使得高頻開關電源可靠性問題得到了圓滿解決，滿足低紋波要求，且體積小、重量輕、節能環保，是一種性價比***優異的直流電源產品，也是可控硅整流電源的替代品。
·技術參數
·
品名
真空鍍膜電源
型號
spwm系列
輸入
相數
單相或三相
電壓
220/380v
頻率
50hz
輸入方式
4線（含地線）
輸出
波形
直線
功率
30kw /60kw/100kw（可定制）
電壓
0—1200v（可定制）
穩定度
≤1%
電流
0—200a（可定制）
穩定度
≤1%
紋波及雜訊
≤5%或≤3%
效率
≥90%
控制
功率
可選擇
電壓
恒壓控制，可本地控制也可通過0-10v或4-20ma
電流
可選擇
保護
具備缺相、過熱、限壓、恒功率、過壓、過流、短路、超載等保護功能
冷卻
風冷
外型
外殼
尺寸(w*d*h)
482.6mm*600mm*266.7mm（30kw）
重量
30kg（30kw）
備注
·
凡在我公司購買任何產品均可享受免費保修一年，還可以為公司免費培訓人員，歡迎來電咨詢成都凱德力
電子科技有限公司
型號kdl
類型ac/dc電源
輸入電壓220/380v
輸出功率3600w
調制方式脈沖寬度調制(pwm)式
晶體管連接方式全橋式
輸出電壓0-1200v
工作效率95%
輸出紋波噪音1%
輸出電壓精度1%
電壓調整率1%
負載調整率1%
產品認證kdl
輸出電流0-3aa
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供應真空鍍膜電源 真空濺射鍍膜電源 真空蒸發鍍膜電源 1200v3a
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本公司生產的真空鍍膜電源（真空蒸發鍍膜電源和真空濺射鍍膜電源）有以下特點：
1、恒流輸出，不隨氣壓變化。
2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能,具有極佳的負載匹配能力。
3、工藝重復性好。
4、提高成膜速度，實現高質量的濺射膜層。
詳細說明：
真空鍍膜電源
真空鍍膜行業不同于以往的電鍍行業，屬于物理方式的表面處理行業。廣泛用于各種金屬及非金屬鍍膜裝置，涂鍍光元件、微電子元件、磁性元件、鐘表、種類裝飾材料、體育用品、精密工模具、薄膜包裝等鍍膜制品，以及應用于現代工業、航空航天航海等軍事領域的鍍耐蝕膜、耐磨損膜、固體潤滑膜裝置。真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度（hv,uhv）而擁有統一名稱。真空鍍膜主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，mbe分子束外延，溶膠凝膠法等等。
一、對于蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。
二對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且***終沉積在基片表面，經歷成膜過程，***終形成薄膜。
真空鍍膜電源是真空鍍膜設備的重要組成部分。例如在真空濺射設備中就是由濺射室、磁控濺射靶、對向磁控靶、射頻電源、直流電源、樣品加熱轉臺、真空獲得及測量系統、電控系統、氣路系統、微機控制膜層系統等組成。
本公司自主研發生產的真空鍍膜電源，成功地運用了優異的脈寬調制技術（pwm），引進三菱、富士等國外進的igbt核心執行元件，大功率機器采用結構均流技術，并配以各種完善的保護功能，使得高頻開關電源可靠性問題得到了圓滿解決，滿足低紋波要求，且體積小、重量輕、節能環保，是一種性價比***優異的直流電源產品，也是可控硅整流電源的替代品。
·技術參數
·
品名
真空鍍膜電源
型號
spwm系列
輸入
相數
單相或三相
電壓
220/380v
頻率
50hz
輸入方式
4線（含地線）
輸出
波形
直線
功率
30kw /60kw/100kw（可定制）
電壓
0—1200v（可定制）
穩定度
≤1%
電流
0—200a（可定制）
穩定度
≤1%
紋波及雜訊
≤5%或≤3%
效率
≥90%
控制
功率
可選擇
電壓
恒壓控制，可本地控制也可通過0-10v或4-20ma
電流
可選擇
保護
具備缺相、過熱、限壓、恒功率、過壓、過流、短路、超載等保護功能
冷卻
風冷
外型
外殼
尺寸(w*d*h)
482.6mm*600mm*266.7mm（30kw）
重量
30kg（30kw）
備注
·
凡在我公司購買任何產品均可享受免費保修一年，還可以為公司免費培訓人員，歡迎來電咨詢成都凱德力
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